光刻照明系统匀光补偿元件的设计与优化方法
摘要
掩模面照明积分不均匀性是影响先进光刻曝光质量的重要因素。在90 nm及以下节点光刻机中，一般要求掩模面照明积分不均匀性小于0.6%。为了补偿掩模面照明不均匀性，提出了一种光刻照明系统匀光补偿元件的设计与优化方法。该方法以照明积分不均匀性和能量损失为评价指标，采用遗传算法设计得到匀光补偿元件。在此基础上综合6种照明模式指标改进适应度函数，提升了匀光补偿元件的适用性。仿真结果表明：当对6种照明模式分别进行优化时，利用所提方法设计得到的6种匀光补偿元件，均可以将照明积分不均匀性校正至0.23%以下；当对6种照明模式同时进行优化时，可以将照明积分不均匀性校正至0.39%以下。所提方法对于光刻照明系统不均匀性的校正具有重要的理论意义和应用价值。
引用本文（GB/T 7714）
张肖依 Zhang Xiaoyi, 齐月静 Qi Yuejing, 王丹 Wang Dan, 等. 光刻照明系统匀光补偿元件的设计与优化方法[J]. Chinese Journal of Lasers, 2025.
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