光学隐身技术综述

程佳 Cheng Jia、苏成欢 Su Chenghuan、郭嘉伟 Guo Jiawei、杨蛟 Yang Jiao、王东东 Wang Dongdong、吴芯洋 Wu Xinyang、宋迪 Song Di、王佳琪 Wang Jiaqi

2025Laser & Optoelectronics ProgressMaterials Science被引 1开放获取

摘要

近年来，随着电磁和材料技术日新月异的发展，隐身技术取得了极大进步。隐身技术在军事领域具有极其重要的应用价值。迄今为止，研究者已在光学隐身领域进行了大量卓有成效的研究，提出了基于变换光学、散射相消和几何光学的隐身方法。超材料的出现使得前两种光学隐身技术逐渐由理论变为现实。本文从光学的基本原理出发，介绍了以上几种主流光学隐身技术的基本原理及研究现状，分析了每种技术的优势及不足，并展望了光学隐身技术未来的发展趋势。

引用本文（GB/T 7714）

程佳 Cheng Jia, 苏成欢 Su Chenghuan, 郭嘉伟 Guo Jiawei, 等. 光学隐身技术综述[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2025.

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DOI：https://doi.org/10.3788/lop242277

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