中国光学十大进展：大尺寸微纳光学器件制造技术（特邀）‡
摘要
微纳光学器件能够实现空间光场多维度的精准操控，其高分辨率、小体积、短作用距离和高集成度等优势克服了传统光学折射器件的限制，具有广阔的应用前景。然而，随着市场化需求指标的不断提升，特别是当微纳光学器件的尺寸扩展到毫米级别以上时，其与微/纳米级特征尺寸之间的制造矛盾问题愈发突出，对微纳加工技术提出了更为严苛的大面积、高精度加工要求。针对这一挑战，本文详细介绍了微纳加工领域的一项关键技术——光刻技术在微纳光学器件制造中的应用情况，梳理了不同光刻技术（包括紫外投影式光刻、接近式光刻、全息掩模式光刻、纳米压印光刻、激光直写光刻、电子束直写光刻和聚焦离子束直写光刻）的发展历程，并阐述了它们的刻写原理和技术演化过程。结合多样化的微纳加工需求，本文指出了各类光刻技术的优劣势及面临的关键技术难题，并对未来如何利用光刻技术优化制备极端精度要求下的大尺寸微纳光学器件进行了展望。
引用本文（GB/T 7714）
孙伯文 Sun Bowen, 张力 Zhang Li, 温积森 Wen Jisen, 等. 中国光学十大进展：大尺寸微纳光学器件制造技术（特邀）‡[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2025.
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