基于模型的光学邻近效应修正应用技术（特邀）
摘要
基于模型的光学邻近效应修正是半导体制造中的关键技术，通过调整掩模图形来补偿光学邻近效应引起的图形失真，从而提高光刻精度。随着技术节点的演进，线边缘粗糙度成为影响器件性能和可靠性的重大挑战，需要更精确的光刻胶模型来预测和控制线边缘粗糙度。设计-工艺协同优化则通过在设计和制造过程中整合优化策略，解决了与缩小特征尺寸相关的多方面挑战，推动了掩模可制造性、光刻性能的提升。将描述光学临近效应物理现象的数学模型和新兴的机器学习算法相结合，有望进一步推动半导体技术的发展。
引用本文（GB/T 7714）
郝芸芸 Hao Yunyun, 董立松 Dong Lisong, 粟雅娟 Su Yajuan, 等. 基于模型的光学邻近效应修正应用技术（特邀）[J]. Acta Optica Sinica, 2025.
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