激光等离子体去除熔石英表面缺陷层实验研究
摘要
为提高熔石英元件表面的抗激光损伤能力，提出了采用激光诱导击穿空气等离子体去除熔石英元件表面缺陷层的方法。保持激光脉冲能量及等离子体与样品表面的距离不变，通过控制样品相对等离子体的移动速率，研究了熔石英元件表面缺陷层的有效去除，以及表面去除深度、均方根粗糙度和紫外激光损伤阈值的变化规律。结果显示：随着样品移动速率的增加，样品表面粗糙度先减小后增大，紫外355 nm激光的损伤阈值呈先增加后减小的变化趋势；当去除深度为0.3 μm时，损伤阈值达到29.8 J/cm2，相比表面缺陷层去除前提高了1.9倍。激光诱导击穿空气等离子体去除技术能可控去除熔石英光学元件表面的缺陷层，并明显提高熔石英元件的抗紫外激光损伤性能。研究结果为高功率激光装置中光学元件的表面处理提供了一种新方案。
引用本文（GB/T 7714）
谢准 Xie Zhun, 邱荣 Qiu Rong, 史晋芳 Shi Jinfang, 等. 激光等离子体去除熔石英表面缺陷层实验研究[J]. Chinese Journal of Lasers, 2025.
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