基于图像去模糊算法的缺陷检测信号增强方法
摘要
极紫外（EUV）光刻是目前最先进的光刻技术，但是曝光过程中掩模上极小的缺陷也会导致晶圆的关键尺寸发生很大变化。因此，若要保证极紫外光刻良品率，缺陷检测算法就必须具备对掩模上的极小缺陷进行检测的能力。目前的一些缺陷检测方法受实验硬件条件所限，对缺陷的检测能力有限。本课题组尝试将二值图像去模糊算法应用于极紫外掩模缺陷检测，以提高掩模缺陷检测系统的分辨能力。对4 nm断线缺陷和10 nm×10 nm方形针孔缺陷以及大小为50 nm、中心相位为π/2的相位缺陷进行了仿真，经过去模糊处理后，三种缺陷信号的对比度分别提高了52.03%、64.89%和44.96%。同时，还对不同系统噪声、缺陷位置和光斑尺寸下的信号增强效果进行了分析，结果显示，去模糊算法可以增强缺陷信号，提高掩模缺陷检测系统的检测能力。
引用本文（GB/T 7714）
王强 Wang Qiang, 曾志男 Zeng Zhinan. 基于图像去模糊算法的缺陷检测信号增强方法[J]. Chinese Journal of Lasers, 2024.
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