极紫外多层膜表面污染与清洗技术研究进展
摘要
极紫外（EUV）多层膜是EUV光刻光学系统的重要组成元件。在光刻系统运行过程中，EUV多层膜反射镜的性能易受其表面污染物的显著影响，从而降低光源输出功率和整机的使用寿命。明晰EUV多层膜反射镜面临的主要污染问题及其针对性控制技术有助于提升EUV光刻系统的稳定性和使用寿命。本文从EUV多层膜反射镜表面污染的产生原因和清洗技术两个方面，对EUV多层膜反射镜污染控制的研究进展进行综述，详细介绍了EUV光刻系统中多层膜反射镜的主要污染与形成方式，以及针对不同污染的预防、抑制和清洗技术。
引用本文（GB/T 7714）
黄凯 Huang Kai, 曾婷婷 Zeng Tingting, 邵建达 Shao Jianda, 等. 极紫外多层膜表面污染与清洗技术研究进展[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2025.
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