超快极紫外光源产生及其在半导体检测中的应用（特邀）
摘要
近些年，随着光刻技术进入极紫外光刻，相关的技术研究对极紫外光源的需求大幅度增长。基于高次谐波的超快极紫外光源成为一种重要的极紫外光刻技术研究工具，同时基于这种超快极紫外光源在光刻和半导体检测中的应用研究也在快速发展。回顾了近些年高重复频率高亮度的高次谐波超快极紫外光源的发展以及其在极紫外光刻和半导体检测方面的一些应用。随着高重复频率激光技术的发展，高次谐波方法已可以在极紫外波段产生功率高达12.9 mW的单次谐波，大大拓展了其应用范围。由于高次谐波具有很高的亮度、超宽的光谱和非常好的相干性，目前在相干衍射成像、相干散射成像等方面具有广泛的应用前景，比如在掩模检测中可观测到最小达到2 nm的线缺陷，有望实现晶体管的三维（3D）纳米尺寸量测等。
引用本文（GB/T 7714）
曾志男 Zeng Zhinan. 超快极紫外光源产生及其在半导体检测中的应用（特邀）[J]. Acta Optica Sinica, 2024.
引文网络
本站仅收录题录与摘要供学习参考，全文版权归属出版方；如有侵权请联系我们删除。