二维正交光栅结构的掠入射小角X射线散射测量
摘要
掠入射小角X射线散射（GISAXS）可进行光栅纳米结构的高分辨无损测量，有望应对半导体在未来节点的测量挑战。然而，传统的GISAXS方法主要用于线光栅的测量，对于二维正交光栅的测量缺乏较好的方案。本文提出了一种测量二维正交光栅结构关键尺寸的方法。建立了在任意入射角和旋转角下定位二维正交光栅布拉格峰的理论模型，基于此模型可以从GISAXS散射信号中提取样品倒易空间信息，从而实现三维结构重建。仿真结果表明，该方法可准确测量二维正交光栅纳米结构的立体轮廓，并显著减小所需的旋转扫描角度范围。这将为GISAXS在半导体测量中的应用奠定基础。
引用本文（GB/T 7714）
方彤 Fang Tong, 王成龙 Wang Chenglong, 喻虹 Yu Hong. 二维正交光栅结构的掠入射小角X射线散射测量[J]. Acta Optica Sinica, 2024.
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