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光学元件磁流变加工不确定度误差工艺方法

高博 Gao Bo范斌 Fan Bin王佳 Wang Jia吴湘 Wu Xiang辛强 Xin Qiang

2024Infrared and Laser EngineeringEngineering被引 4

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摘要

为减少磁流变抛光过程中误差对加工精度的影响,实现光学元件磁流变高精度加工,采用一种不确定度误差工艺方法对加工中的误差进行抑制。通过对磁流变加工过程中的位置误差和去除函数误差进行不确定度分析,在理论分析与实验分析的基础上进行验证实验。由仿真与实验结果可知,加工中面形误差与中频误差均存在3.5 nm的不确定度误差值,通过验证实验,得到了加工后的面形误差RMS值为20 nm,中频误差RMS值为14 nm。结果表明,采用误差不确定度的方法可优化加工工艺流程,减少误差对加工过程的影响,可以达到不确定度下的面形精度。该方法为磁流变高精度确定性加工以及面形误差与中频误差的抑制问题提供了一种解决方案。

引用本文(GB/T 7714)

高博 Gao Bo, 范斌 Fan Bin, 王佳 Wang Jia, 等. 光学元件磁流变加工不确定度误差工艺方法[J]. Infrared and Laser Engineering, 2024.

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DOI:https://doi.org/10.3788/irla20230595

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