基于广度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法
摘要
提出一种基于广度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。通过广度优先搜索算法得到所有图形数最少的关键图形组。以45 nm标准单元库测试图形集为例，采用商用计算光刻软件Tachyon Tflex对本文方法的筛选结果进行仿真验证。结果表明，本文方法获得的关键图形组的工艺窗口优于Tachyon Tflex中的同类技术。相比于基于深度优先搜索的全芯片SMO关键图形筛选方法，本文方法只筛选出所有图形数量最少的关键图形组，图形筛选效率更高。
引用本文（GB/T 7714）
杨欣华 Yang Xinhua, 江一鹏 Jiang Yipeng, 李思坤 Li Sikun, 等. 基于广度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法[J]. Acta Optica Sinica, 2024.
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