面向散射光场调控的波前整形方法及其成像应用（特邀）
摘要
光学散射一直以来都被认为是限制光学成像深度的重要因素。近年来，波前整形方法克服光学散射的能力引起了研究人员的广泛关注，其核心思想是通过对入射光进行相位调制，补偿散射引起的波前扰乱。波前整形方法能够有效地重新聚焦散射光，有望实现深层组织内高分辨率成像的目标。回顾了波前整形的历史发展，讨论了不同类型的波前整形方法，展示了其在克服光学散射以实现深层组织成像方面的应用实例，并展望了波前整形方法的未来发展趋势。
引用本文（GB/T 7714）
沈乐成 Shen Yuecheng, 罗嘉伟 Luo Jiawei, 张志凌 Zhang Zhiling, 等. 面向散射光场调控的波前整形方法及其成像应用（特邀）[J]. Acta Optica Sinica, 2024.
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