基于poly-Si键合层的SACM型Ge/Si APD的优化设计研究
摘要
Ge/Si雪崩光电二极管（APD）被广泛应用于近红外探测领域，但由于Ge和Si之间存在4.2%的晶格失配，故难以获得高性能的Ge/Si APD。提出在Ge/Si键合界面处引入多晶硅（poly-Si）键合中间层，弱化Ge/Si失配晶格对APD器件性能的影响。poly-Si引入后键合界面电场发生变化，导致APD内部的电场重新分布，极大地影响了器件性能。因此，重点对Ge吸收层和Si倍增层的掺杂浓度进行调控，探究了掺杂浓度对Ge/Si APD电场、复合率、载流子浓度、碰撞电离等性能的影响，最终设计出高性能键合Ge/Si APD。本工作将为低噪声、高增益Ge/Si APD的研究提供理论指导。
引用本文（GB/T 7714）
张娟 Zhang Juan, 苏小萍 Su Xiaoping, 李嘉辉 Li Jiahui, 等. 基于poly-Si键合层的SACM型Ge/Si APD的优化设计研究[J]. Chinese Journal of Lasers, 2024.
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