首页 / 资料库 / 文献详情

氧化限制型795 nm垂直腔面发射激光器

聂语葳 Nie YuweiWei Li吕家纲 Lü Jiagang潘智鹏 Pan Zhipeng刘素平 Liu Suping马骁宇 Ma Xiaoyu

2024Chinese Journal of LasersEngineering被引 2开放获取

出版方页面 →

摘要

单模795 nm垂直腔面发射激光器作为铷原子钟的激光光源,一般采用氧化限制结构获得单模输出。对垂直腔面发射激光器外延结构以及氧化限制孔径进行了优化设计。基于有限元分析方法,利用光纤波导理论和热电耦合模型,对氧化孔径的光学和电学限制进行了模拟,计算分析了实现单模和良好热电特性所需的氧化孔径大小。实验制备了具有不同氧化孔径的器件,并进行了功率-电流以及光谱特性测试。当氧化孔径为1.9 μm时,在3~7 mA注入电流下器件始终保持单模输出,边模抑制比大于35 dB;器件保持单模输出的最大氧化孔径为3.8 μm,室温下阈值电流为1 mA,最大饱和输出功率为2 mW,斜率效率为0.3 W/A,3 mA注入电流下的出射波长为790 nm,边模抑制比大于30 dB。制备的室温下单模特性良好的790 nm垂直腔面发射激光器,为实现高温下795 nm偏振稳定单模输出提供了可能。

引用本文(GB/T 7714)

聂语葳 Nie Yuwei, Wei Li, 吕家纲 Lü Jiagang, 等. 氧化限制型795 nm垂直腔面发射激光器[J]. Chinese Journal of Lasers, 2024.

引文网络

参考文献与被引分析加载中…

DOI:https://doi.org/10.3788/cjl230906

本站仅收录题录与摘要供学习参考,全文版权归属出版方;如有侵权请联系我们删除。