面向光学/精密结构的碳化硅制备和应用进展

张舸 Zhang Ge、崔聪聪 Cui Congcong、Wei Li、董斌超 Dong Binchao、曹琪 Cao Qi、周立勋 Zhou Lixun、郭聪慧 Guo Conghui、张巍 Zhang Wei

2024Acta Optica SinicaEngineering被引 1开放获取

摘要

碳化硅陶瓷具有力学和热学综合性能优势，已广泛应用于光学/精密结构构件的制造。综述了应用于天/地基先进光电系统领域的碳化硅陶瓷制备技术国内外现状，对比分析了常压烧结、反应烧结、气相转化/沉积三种已获得工程化应用的致密化技术，以及预制体成型技术和材料性能调控方法；介绍了碳化硅陶瓷的增材制造技术，及其应用于光学/精密结构构件制备的进展；总结了超大口径、超高复杂度碳化硅陶瓷的连接技术。阐述了不同应用场景对碳化硅陶瓷的性能需求及其面临的挑战，展望了碳化硅陶瓷制备技术的发展趋势。

引用本文（GB/T 7714）

张舸 Zhang Ge, 崔聪聪 Cui Congcong, Wei Li, 等. 面向光学/精密结构的碳化硅制备和应用进展[J]. Acta Optica Sinica, 2024.

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DOI：https://doi.org/10.3788/aos231638

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