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高功率1060 nm垂直腔面发射激光器

郑妹茵 Zheng Meiyin渠红伟 Qu Hongwei周旭彦 Zhou Xuyan董风鑫 Dong Fengxin张建心 Zhang Jianxin隋佳桐 Sui Jiatong孟凡胜 Meng Fansheng谢中华 Xie Zhonghua

2024Acta Optica SinicaEngineering被引 4开放获取

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摘要

为了提高1060 nm垂直腔面发射激光器(VCSEL)的性能,本文对大功率1060 nm VCSEL进行了理论模拟和实验研究。计算得到红移速度为0.40 nm/K,据此确定增益和腔模失配量为-20 nm。对比分析了6种不同InGaAs组分和厚度的量子阱,以及3种不同势垒材料的增益特性和输出特性,模拟结果表明,应变补偿的InGaAs/GaAsP量子阱有源区在温度稳定性、阈值电流以及功率方面更有优势。对P型分布式布拉格反射镜(DBR)进行优化设计,优化DBR渐变层厚度和对数,有助于获得更好的输出特性。采用金属有机化学气相沉积生长了InGaAs/GaAsP应变补偿量子阱结构的VCSEL外延片,并制备了单管和阵列VCSEL,实验数据和理论分析基本吻合。实验测得,288单元VCSEL阵列在4.5 A电流下,连续输出功率为2.62 W,最高电光转换效率为36.8%,5 mm×5 mm VCSEL阵列准连续条件下(脉宽为100 μs,占空比为1%),且在100 A电流下,获得峰值功率为53.4 W。

引用本文(GB/T 7714)

郑妹茵 Zheng Meiyin, 渠红伟 Qu Hongwei, 周旭彦 Zhou Xuyan, 等. 高功率1060 nm垂直腔面发射激光器[J]. Acta Optica Sinica, 2024.

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DOI:https://doi.org/10.3788/aos231444

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