基于单像素成像原理的多模式显微成像技术
摘要
半导体芯片等微纳器件制造过程中，对其形貌进行表征有助于制造工艺评估和缺陷检测。为了获得待测样品完整的信息，通常需要使用明场显微镜、暗场显微镜等进行多种成像模式的联合表征。但目前实现多模式成像常须更改实验装置或使用不同的成像系统，导致获取的多模式图像的视场不同，不利于将多模式成像结果综合起来对待测样品进行全面分析。针对以上问题，提出基于单像素成像原理的多模式显微成像技术。该技术将宽场照明显微镜中的光源替换成结构照明光源，然后将相机每个像素点作为单像素探测器，并利用单像素重建算法得到艾里斑图像。艾里斑图像中不同位置的值代表不同物点发出的不同级次的衍射信号。通过从艾里斑图像中提取不同位置的值，按照相机像素坐标排列，可以重建不同模式的图像。与传统的多模式显微成像方法相比，所提基于单像素成像原理的多模式显微成像技术采用同一套装置和相同的实验数据，重建的多模式图像的视场相同。所提方法为显微成像技术的发展提供了一种全新的思路，有望在微纳器件的离线形貌表征中得到应用。
引用本文（GB/T 7714）
李东哲 Li Dongzhe, 周维帅 Zhou Weishuai, 黄素仪 Huang Suyi, 等. 基于单像素成像原理的多模式显微成像技术[J]. Acta Optica Sinica, 2023.
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