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太赫兹功能器件表面增透膜研究进展

史佳琦 Shi Jiaqi曹俊诚 Cao Juncheng

2023Laser & Optoelectronics ProgressMaterials Science被引 1开放获取

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摘要

工作于太赫兹波段的功能器件常以硅、锗等高折射率材料为界面,这会导致界面与空气的阻抗失配,从而引起不必要的光能损失。在界面镀制增透膜可以有效减小反射率、增加透射率,从而大大提高器件性能,因此增透膜的研制具有重要意义。基于上述的应用需求,首先介绍太赫兹增透膜的研究意义,然后着重介绍目前国内外制备太赫兹增透膜的几种常见方法,并分析各自的优缺点,最后对太赫兹增透膜的研究进行总结和展望。

引用本文(GB/T 7714)

史佳琦 Shi Jiaqi, 曹俊诚 Cao Juncheng. 太赫兹功能器件表面增透膜研究进展[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2023.

引文网络

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DOI:https://doi.org/10.3788/lop231565

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