轴向张力作用下As2S3硫系光纤的光敏性及其在Bragg光栅刻写方面的应用
摘要
为进一步提高硫系光纤的光敏性，基于光纤法布里-珀罗标准具原理研究了As2S3硫系光纤在轴向张力作用下的光敏性，结果表明施加轴向张力能显著提高其光敏性。与未施加轴向压力相比，在第一快过程中，光致折射率负变化幅度减小，经历的时间可缩短至数十秒；在第二慢过程中，光致折射率变化Δn加快朝正方向恢复，在一定张力作用下光致折射率变化Δn出现正增长，Δn增长幅度可达到5.41×10-3。基于这一显著光敏性刻写了As2S3硫系光纤Bragg光栅，在70~110 s的短曝光时间内，光栅透射深度平均值达到了9.46 dB，且光栅光谱质量良好。本研究为制备高反射率硫系光纤光栅提供了新思路和新途径。
引用本文（GB/T 7714）
邹林儿 Zou Liner, 尚磊 Shang Lei, 杨熙飞 Yang Xifei, 等. 轴向张力作用下As2S3硫系光纤的光敏性及其在Bragg光栅刻写方面的应用[J]. Chinese Journal of Lasers, 2023.
引文网络
本站仅收录题录与摘要供学习参考，全文版权归属出版方；如有侵权请联系我们删除。