红外光场成像中的辐射定标与校正
摘要
为了实现在长波红外波段应用光场成像技术，对红外光场成像中的辐射定标与非均匀性进行了研究。首先，根据光场成像和非均匀性校正的原理，提出了红外光场成像辐射定标模型，分析了响应漂移与非均匀性的关系。接着，设计标准黑体实验，记录两点校正法定标后30 h内的图像数据，对比了相同条件下光场数据和光场成像的非均匀性变化情况。实验结果表明：在10 min~30 h内，光场数据的非均匀性由0.062%增大到0.62%，光场成像的非均匀性由0.024%增大到0.27%。响应漂移对红外光场成像非均匀性的影响受到微透镜阵列渐晕和重聚焦计算的共同作用。重聚焦计算可有效抑制由响应漂移引起的非均匀性增长。
引用本文（GB/T 7714）
王腾飞 Wang Tengfei, 傅雨田 Fu Yutian. 红外光场成像中的辐射定标与校正[J]. Infrared and Laser Engineering, 2022.
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