电子全息及其在材料科学中的一些应用
摘要
月 评 述 图 1 离轴电子全息形成示意图 (a) 电子全息形成光路图; (b) 电子波经过双棱镜时的光路示意图; (c) 双棱镜示意图 调节范围一般为 0~500 V, 且极性可以反转.在二氧 化硅细丝的两侧各有一片接地的金属板, 使二氧化 硅与金属板之间形成静电场, 如图 1(c) [2] 所示.过样品的电子波)可表示为 φ 双棱镜既可以放在样品和物镜之间, 也可以放 在成像透镜之后, 当静电双棱镜放在样品与物镜之 间时, 来自样品较大区域的散射波可以参与干涉, 可 获得较多的样品信息, 适合获得高放大倍数的全息 图. 当静电双棱镜处于物镜之后, 参与相干衍射的电 子波来自相对较小的区域, 适合获得较低倍数的全 息图.散射波和参考波可看成是从两个虚光源发出 的, 它们的位置可通过改变物镜励磁电流来调节. 大
引用本文（GB/T 7714）
焕芳 田, 建奇 李. 电子全息及其在材料科学中的一些应用[J]. Chinese Science Bulletin (Chinese Version), 2006.
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