用多孔氧化铝模板制备高度取向碳纳米管阵列膜的研究
摘要
用多孔氧化铝(AAO)模板(孔径约250 nm, 孔密度约5.3 10<sup>8</sup> cm<sup>-2</sup>, 厚度约60 mm)进行化学气相沉积(CVD), 成功地制备出大面积高度取向的碳纳米管有序阵列膜. 用透射电子显微镜 (TEM)和扫描电子显微镜(SEM)观察了阵列膜的表面形貌和碳纳米管的结构. 发现碳纳米管的长度和管径取决于AAO 模板的厚度和孔径, 碳纳米管的生长特性与模板的结构催化剂颗粒反应气体热解温度流量比例以及沉积时间等因素有关. 该方法工艺简便, 可使碳纳米管的结构均匀一致, 排列分立有序, 形成一种有用的碳纳米管自组装有序阵列复合结构, 且成本低, 能实现大面积生长, 非常利于碳纳米管基础与应用研究.
引用本文（GB/T 7714）
善林 潘, 虎林 力, 梦柯 李, 等. 用多孔氧化铝模板制备高度取向碳纳米管阵列膜的研究[J]. Chinese Science Bulletin (Chinese Version), 2000.
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