用射频溅射方法制备的多晶ZnO薄膜的光响应与其结构变化
摘要
摘要 用射频溅射方法在较高氧压下沉积的多晶的ZnO薄膜,其光响应主要由两部分组成:第一部分来源于膜内晶粒界面所吸附氧原子的光脱附,该部分光响应可使膜的电导率增加两个数量级且响应速度较快;第二部分来源于薄膜表面所吸附氧原子的光脱附,此光响应可使膜的电导率增加4一5个数量级,但响应速度非常缓慢.两部分光响应都来自薄膜的结构变化,膜的结构变化与膜所处环境中气体的种类,压强以及膜的温度有关. Abstract 作者及机构信息 张德恒2, D.E.Brode1 (1)DepartmentofPhysics,UniversityofcjWaterloo,Waterloo,Ontario,Canada,N2L3G1; (2)山东大学物理系,济南250100 Authors and contacts Zheng De-Heng2, D.E.Brode1 (1)DepartmentofPhysics,UniversityofcjWaterloo,Waterloo,Ontario,Canada,N2L3G1; (2)山东大学物理系,济南250100 参考文献 施引文献
引用本文（GB/T 7714）
Zheng De-Heng, D.E.Brode. 用射频溅射方法制备的多晶ZnO薄膜的光响应与其结构变化[J]. Acta Physica Sinica, 1995.
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