Si基纳米发光材料的研究进展
摘要
Si基纳米材料是近年迅速发展起来的一类新型光电信息材料, 在未来的Si发光二极管、Si激光器以及Si基光电子集成技术中具有潜在的重要应用. 这些材料主要包括纳米多孔硅, 由SiO<sub>2</sub>膜、SiO<sub><italic>x</italic></sub> (<italic>x</italic><2.0)膜与氢化非晶Si(a-Si:H)膜镶嵌或覆盖的Si纳米微粒, Si纳米量子点以及Si/SiO<sub>2</sub>超晶格等. 目前的研究迹象预示, 一旦这些材料能够实现高效率和高稳定度的光致发光(PL)或电致发光(EL), 很有可能在21世纪初引发一场新的信息革命. 主要介绍了过去10年中各类Si基纳米材料在制备方法、结构特征和发光特性方面的研究进展, 并初步预测了这一研究领域在今后10年内的发展趋势.
引用本文（GB/T 7714）
广生 傅, 英才 彭, X. W.Zhao. Si基纳米发光材料的研究进展[J]. Chinese Science Bulletin (Chinese Version), 2002.
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