真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响

Huang Feng、Cheng Shan-Hua、Zhaoyuan Ning、Yang Shen-Dong、Ye Chao、苏州大学物理系,苏州215006

2002Acta Physica SinicaEngineering被引 1开放获取

摘要

在苯(C6H6)和四氟化碳(CF4)混合气体中,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术(ECRCVD)在不同功率下制备了氟化非晶碳膜(aC:F),为了检测膜的热稳定性对其进行了真空退火处理,测量了退火前后膜厚的变化率,并用傅里叶变换红外吸收光谱(FTIR)研究了其结构的变化.结果表明,膜厚变化率与沉积功率有关;400℃退火后低功率下沉积的膜的结构变化显著,高功率下沉积的膜则呈现了较好的热稳定性.

引用本文（GB/T 7714）

Huang Feng, Cheng Shan-Hua, Zhaoyuan Ning, 等. 真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响[J]. Acta Physica Sinica, 2002.

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DOI：https://doi.org/10.7498/aps.51.1383

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