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小角x射线散射确定TiNi薄膜中晶化粒子的长大激活能

Meng FanlingLi YonghuaXu YaoYuming Wang吉林大学材料科学系,长春130023

2002Acta Physica SinicaMaterials Science被引 1开放获取

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摘要

用小角x射线散射技术研究以直流磁控溅射方法制备TiNi合金薄膜其退火生成的晶化粒子的长大行为.发现在室温下溅射的TiNi合金薄膜存在小于1nm尺寸的微空洞,将退火后薄膜的小角x射线散射强度扣除退火前微空洞产生的小角x射线散射强度,用这种方法得到的散射强度遵从Porod定律;而用通常方法扣除背底得到的散射强度结果不满足Porod定律.TiNi合金薄膜在733—793K之间退火晶化粒子的长大激活能Eg=301kJmol.

引用本文(GB/T 7714)

Meng Fanling, Li Yonghua, Xu Yao, 等. 小角x射线散射确定TiNi薄膜中晶化粒子的长大激活能[J]. Acta Physica Sinica, 2002.

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DOI:https://doi.org/10.7498/aps.51.2086

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