首页 / 资料库 / 文献详情

阴极微弧电沉积钇稳定氧化锆涂层

德仁 王、唯 高、晓战 杨、业东 何

2002Chinese Science Bulletin (Chinese Version)Engineering被引 1开放获取

下载 PDF 全文出版方页面 →

摘要

提出了一种新颖的阴极微弧电沉积技术(CMED). 利用该技术在FeCrAl合金上制备出厚的钇稳定氧化锆(YSZ)涂层.研究结果表明,在试样上预先沉积YSZ薄膜,施加高压电脉冲时可以导致微弧放电; 在微弧的作用下可以获得厚度达300 <italic>μ</italic>m具有晶态结构的YSZ涂层; 高压电脉冲的电压值和频率决定了沉积涂层的厚度; 电解液中添加硝酸钇时, 发生ZrO<sub>2</sub>和Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>的共沉积, 可使涂层中的t-ZrO<sub>2</sub>, t’- ZrO<sub>2</sub>和c-ZrO<sub>2</sub>稳定到室温; 提高电解液中Y(NO<sub>3</sub>)<sub>3</sub>的含量可以降低涂层中m-ZrO<sub>2</sub>的相对含量.研究了阴极微弧电沉积YSZ涂层的微观结构, 分析了阴极微弧电沉积的基本过程及机理.

引用本文（GB/T 7714）

德仁 王, 唯 高, 晓战 杨, 等. 阴极微弧电沉积钇稳定氧化锆涂层[J]. Chinese Science Bulletin (Chinese Version), 2002.

引文网络

参考文献与被引分析加载中…

DOI：https://doi.org/10.1360/csb2002-47-7-525

本站仅收录题录与摘要供学习参考，全文版权归属出版方；如有侵权请联系我们删除。