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阴离子化合物Y 5 Si 3 衬底增强石墨烯氧还原反应的第一性原理研究
林晶晶、吕海峰、武晓君
2018Chinese Journal of Chemical PhysicsEngineering被引 3
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引用本文（GB/T 7714）
林晶晶, 吕海峰, 武晓君. 阴离子化合物Y 5 Si 3 衬底增强石墨烯氧还原反应的第一性原理研究[J]. Chinese Journal of Chemical Physics, 2018.
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