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非晶SiO2/Si界面缺陷及其钝化/去钝化反应机制

洪卓呈、左旭

2020Engineering被引 2

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引用本文（GB/T 7714）

洪卓呈, 左旭. 非晶SiO2/Si界面缺陷及其钝化/去钝化反应机制[J]. 未知来源, 2020.

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DOI：https://doi.org/10.16182/j.issn1004731x.joss.20-fz0474e

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