Microstructure and Optical Characterization of Magnetron Sputtered NbN Thin Films
摘要
在准备，结构和 NbN 电影的光性质的一些基本研究被执行。NbN 薄电影被 DC 反应磁控管在不同 N_2 部分压力和从 -50 ℃到 600 ℃ X 光检查衍射分析(XRD ) 的不同底层温度劈啪作响扔，扫描电子显微镜学(SEM ) 被采用描绘他们的阶段部件，微观结构，谷物尺寸和表面形态学。包括在不同劈啪作响条件下面的 NbNfilms 的折射索引，吸光系数和发射度的 Opticalproperties 被测量。随 N_2 部分压力的增加，δ - NbN 阶段结构给形成并且谷物尺寸和增加的 cubicNbN 的晶格常数。扔的 NbN 电影在从 240 跑到 830 nm 的波长有折射索引和吸光系数的相对高的价值。底层温度对微观结构和 NbN 电影的光发射度施加著名影响。δ - NbN 电影的谷物尺寸显著地与底层温度的上升增加，当有一样的厚度的电影的发射度减少时。当底层被凉下来到 -50 ℃, 和发射度的显著扩大时，几纳米的尺寸形成的有粒子的极其细小的小粒的电影能被注意在下面那么低温度。
引用本文（GB/T 7714）
Du, Xinkang, Wang, 等. Microstructure and Optical Characterization of Magnetron Sputtered NbN Thin Films[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2007.
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