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Development of Sequence Characterized Amplified Region （SCAR） Primers for the Detection of Resistance to Sporisorium reiliana in Maize

Shi Shi、Hongliang、Li、Xin-hai、Zhang、De-gui、Xie、Chuanxiao

2009Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunyatseniBiochemistry, Genetics and Molecular Biology被引 1

摘要

玉米(Zea mays L.) 的头浪妇，被 Sporisorium reiliana 引起，发生在大多数种世界的区域的玉米。这研究的目的是为抵抗基因和妈的基于地图的克隆开发疤标记。BC3 子孙的二个集合，(BC3Q ) 源于生气 Qi319 (抵抗) × Huangzao 4 (易受影响) ，其它(BC3M ) 从 Mo17 (抵抗) × Huangzao 4 (易受影响) ，被产生。Huangzao 4 是在两个子孙的周期性的父母。有 AFLP (放大碎片长度多型性) 的 BSA (bulked segregant 分析) 的联合方法被使用印射包含抵抗到 S 的基因。reiliana，和相应抵抗、易受影响的体积和他们的父母线被用于屏蔽多态的 AFLP 教材对。P13M61 152 的一碎片被变换成疤(顺序 charactered 放大了碎片) 标记 S130。标记在染色体箱 2.09 点被印射，一个主要 QTL 区域的间隔以前报导了贡献 S。reiliana 抵抗。而且， S130 高度与抵抗被联系到 S。reiliana，并且能为帮助标记的选择有用并且便于抵抗基因的基于地图的克隆。

引用本文（GB/T 7714）