Densification Behavior of Nanocrystalline Mg2Si Compact in Hot-pressing

2007Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunyatseniMaterials Science被引 1

摘要

1.2 GPa 由 Heckel 决定了公式，在哪个之中在高压力范围 p>1.2 GPa 的第三个快增加片断很少在常规纹理粗糙的 polycrystallinematerials.Nevertheless 被报导了，在调查的整个压力范围( 0.125-1.500 GPa )， n-Mg2Si 的 densificationbehavior 能是 Kawakita 公式p/C=( 1/a )描述的井有在对协议的起始的孔的好同意的 constanta=0.452 的p+1/( ab )。

引用本文（GB/T 7714）

Wei, Xiong, Xiaoying, 等. Densification Behavior of Nanocrystalline Mg2Si Compact in Hot-pressing[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2007.

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