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钠离子对 γ-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>表面的修饰作用

渝华 孔国兴 王朝辉 叶勇 岳有如 杜小定 李风 邓

2000Chinese Science Bulletin (Chinese Version)Materials Science被引 2开放获取

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摘要

用<sup>1</sup>H/<sup>23</sup>Na核磁共振双共振新技术研究了钠离子对 γ-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>载体表面羟基的修饰作用. <sup>1</sup>H→<sup>23</sup>Na交叉极化(CP)实验明确地区分出3种与表面羟基有相互作用的钠离子, 而与表面羟基无相互作用的沉积盐棗Na<sub>2</sub>CO<sub>3</sub>的信号则被完全抑制掉. <sup>1</sup>H{<sup>23</sup>Na}自旋回波双共振实验明确地揭示了这种相互作用的细节, 当Na<sup>+</sup>负载量较低(5%, 10%)时, Na<sup>+</sup>优先与 γ-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>表面上的酸性OH配位, 随着Na<sup>+</sup>负载量的增加(15%, 20%), 碱性OH基团也能被Na<sup>+</sup>所配合. 正是由于存在这种配位作用, 使得OH基团中的H更容易解离. 表现为随着样品焙烧温度的升高, 酸性的OH被优先脱除, 当焙烧温度达600℃时, 在 γ-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>表面上仅留下碱性OH基团.

引用本文(GB/T 7714)

渝华 孔, 国兴 王, 朝辉 叶, 等. 钠离子对 &amp;gamma;-Al&amp;lt;sub&amp;gt;2&amp;lt;/sub&amp;gt;O&amp;lt;sub&amp;gt;3&amp;lt;/sub&amp;gt;表面的修饰作用[J]. Chinese Science Bulletin (Chinese Version), 2000.

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DOI:https://doi.org/10.1360/csb2000-45-18-1936

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