Chemical mechanical planarization of Ge2Sb2Te5 using IC1010 and Politex reg pads in acidic slurry

2014中国物理B：英文版Engineering被引 1

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He, Ao-Dong, Liu, 等. Chemical mechanical planarization of Ge2Sb2Te5 using IC1010 and Politex reg pads in acidic slurry[J]. 中国物理B：英文版, 2014.

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