首页 / 资料库 / 文献详情
Preparation of a new gate dielectric material HfTiON film
Yu、Guoyi、Zou、Xuecheng、Chen、Weibing
2007中国邮电高校学报：英文版Engineering被引 2
摘要
该文献暂无收录摘要。
引用本文（GB/T 7714）
Yu, Guoyi, Zou, 等. Preparation of a new gate dielectric material HfTiON film[J]. 中国邮电高校学报：英文版, 2007.
本站仅收录题录与摘要供学习参考，全文版权归属出版方；如有侵权请联系我们删除。