The Preparation and Characterization of Amorphous SiCN Thin Films
摘要
用象反应的 N2， SiH4 和 C2H4 的提高的化学蒸汽免职(RF CVD ) 采购的收音机频率血浆被用来准备非结晶的第三的 Si x C y N z 薄电影。在这些电影的 C， Si 和 N 原子的化学状态被 X 光检查光电子光谱学(XPS ) 和 Fourier 变换描绘红外线的光谱学(FTIR ) 。折射 indexn，扑灭 coefficientk 和光乐队哈父薄电影抉择被紫外可见的分光光度计和分光镜的 ellipsometer 调查。结果显示出那一个复杂化学结合网络而非 Si3N4 的简单混合物，原文如此 CN x 和交流等等，可以在第三的薄电影存在。当时具有这些电影在 1 的范围以内。90 鈥 ? 。45， andE 抉择具有所有样品在 2 的范围以内。71 鈥 ? 。86 eV。
引用本文（GB/T 7714）
Li, Jin-chai, LU LU, 等. The Preparation and Characterization of Amorphous SiCN Thin Films[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2001.
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