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基于TDLAS-WMS的中红外痕量CH 4 检测仪

曲世敏

2016光谱学与光谱分析Engineering被引 2

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引用本文（GB/T 7714）

曲世敏. 基于TDLAS-WMS的中红外痕量CH 4 检测仪[J]. 光谱学与光谱分析, 2016.

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DOI：https://doi.org/10.3964/j.issn.1000-0593(2016)10-3174-05

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