Pr 2-α Ni 0.76-x Cu 0.24 Ga x O 4+δ 混合酸化物膜のイオンと正孔の混合伝導率

Tatsumi Ishihara、Sirikanda Nuansaeng、Nakashima Kenichi、Shogo Miyoshi、Hiroshige Matsumoto

2010Journal of The Electrochemical SocietyEngineering被引 4

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引用本文（GB/T 7714）

Tatsumi Ishihara, Sirikanda Nuansaeng, Nakashima Kenichi, 等. Pr 2-α Ni 0.76-x Cu 0.24 Ga x O 4+δ 混合酸化物膜のイオンと正孔の混合伝導率[J]. Journal of The Electrochemical Society, 2010.

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