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n型非晶質SiGe:H/p型結晶質Siヘテロ接合ダイオードの伝導機構に及ぼすa‐SiGe:H厚の影響
Pedro Rosales、Alfonso Torres、Roberto S. Murphy‐Arteaga、Francisco Javier De la Hidalga Wade、Lluı́s F. Marsal、Roser Bono、J. Pallarès
2005Journal of Applied PhysicsEngineering被引 27
摘要
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引用本文（GB/T 7714）
Pedro Rosales, Alfonso Torres, Roberto S. Murphy‐Arteaga, 等. n型非晶質SiGe:H/p型結晶質Siヘテロ接合ダイオードの伝導機構に及ぼすa‐SiGe:H厚の影響[J]. Journal of Applied Physics, 2005.
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