全氢聚硅氮烷浸渍裂解法制备高性能3D SiO2/Si3N4复合材料
摘要
以低黏度、润湿性好、陶瓷产率高的全氢聚硅氮烷为陶瓷先驱体, 通过多次浸渍-固化-裂解工艺制备了高性能三维石英织物增强氮化硅复合材料. 随着裂解温度的提高(从T1, T2到T3), 复合材料密度逐渐增加, 而弯曲强度先增后减. 在裂解温度T2时, 先驱体具有较好的陶瓷化程度, 所制备的复合材料弯曲强度高达144.9 MPa, 且介电性能优良. 这些高性能源于较小的石英纤维损伤, 良好的纤维/基体界面微结构和高纯度致密氮化硅基体.
引用本文（GB/T 7714）
齐共金, 张长瑞, 胡海峰, 等. 全氢聚硅氮烷浸渍裂解法制备高性能3D SiO2/Si3N4复合材料[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2005.
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