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化学溶液沉积法制备Nd和Sc/Al/(Sc,Al)共掺杂钛酸铋铁电薄膜的电性能研究

胡增顺杨桦晋玉星

2012材料导报Materials Science被引 0

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摘要

利用化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)基底和700℃条件下分别制备了Nd和Sc/Al/(Sc,Al)共掺杂的钛酸铋薄膜Bi3.15Nd085Ti2.94Sc0.06O12(BNTSc)、Bi3.15Nd0.85Ti294Al0.06O12(BNTAl)和Bi3.15Nd0.85Ti2.94(Sc0.03,Al0.03)O,2(BNT(Sc,Al)),并研究和对比了这一系列薄膜的微结构、介电、铁电和漏电流等特性。结果发现BNT(Sc,Al)薄膜具有较高的剩余极化强度和介电常数,其漏电流密度低于BNTAl薄膜。另外,还讨论了相关的物理机制。

引用本文(GB/T 7714)

胡增顺, 杨桦, 晋玉星. 化学溶液沉积法制备Nd和Sc/Al/(Sc,Al)共掺杂钛酸铋铁电薄膜的电性能研究[J]. 材料导报, 2012.

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