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飞行时间质谱法研究Si（CH3）4分子的多光子解离和电离过程

施德恒、刘玉芳

2001Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunyatseniMaterials Science被引 0

摘要

采用超声分子束技术,以飞行时间(TOF)质谱仪,于410～371nm内,在不同能量的激光作用下,着重检测了气相Si(CH3)4分子在15个波长点处的多光子电离(MPI)TOF质谱分布.根据实验结果,讨论了Si(CH3)4可能的MPI机理.得到了Si+主要来自于母体分子及中性碎片的多光子解离-硅原子的共振电离、Si(CH3)+n(n=1,2,3)主要来自于中性碎片Si(CH3)n(n=1,2,3)的自电离、而Si(CH3)+4则来自于母体分子的(3+1)电离的结论.

引用本文（GB/T 7714）