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C（膜）／Si／（SiO2）（纳米微粒）／C（膜）的光致发光性质研究

邱晓燕、李建

2002Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunyatseniPhysics and Astronomy被引 0

摘要

用直流辉光溅射法结合真空镀膜法制备出了一种多层三明治结构的光致发光材料-C(膜)/Si(SiO2)(纳米微粒)/C(膜)夹层膜,然后分别在400、650和750℃退火1 h.在波长为250 nm的紫外光激发下,刚制备出来未经退火处理的样品具有一个在398nm(3.12 eV)处的紫光宽带PL1峰.在650℃退火后,又出现了一个在360nm(3.44eV)附近的PL2峰.PL1和PL2峰形状和峰位与退火温度和激发波长无关,但强度却与退火温度和激发波长密切相关.结合形态结构分析可知,紫光PL1峰可用量子限制-发光中心(QC-LCs)模型进行解释:即光激发发生在8iO2微粒内部,而光发射源于SiO2与Si界面上的缺陷中心.紫外荧光PL2峰则源自SiC内部的电子-空穴复合发光.

引用本文（GB/T 7714）