脉冲激光沉积Ti50 Ni36 Cu14薄膜的成分均匀性
摘要
采用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了Ti50Ni36Cu14合金薄膜.研究表明,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片/靶间距)、激光脉冲频率有较大关系.当沉积距离(D)为20～30mm时,可获得成分均匀稳定的合金薄膜;当其它条件相同,激光脉冲频率(F)为5Hz时,合金薄膜与靶成分更为接近.采用PLD技术制备的Ti50Ni36Cu14合金薄膜成分均匀性较好,同时与磁控溅射薄膜相比PLD薄膜的平均成分更加接近靶体.采用本工艺获得的Ti50Ni36Cu14薄膜的平均成分为47.53at.%Ti、38.90 at.% Ni和13.57 at.%Cu.
引用本文（GB/T 7714）
李亚东, 骆苏华, 高伟健. 脉冲激光沉积Ti50 Ni36 Cu14薄膜的成分均匀性[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2005.
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