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SiC p /Al-Si复合材料中SiC/Al界面处亚晶铝带的研究

隋贤栋罗承萍欧阳柳章骆灼旋

2000Engineering被引 0

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摘要

通过利用TEM研究SiCp/Al-Si昨合材料发现,SiC/Al界面结合紧密,在靠近SiC界面的Ala基体中,有一层厚度小于1μm的“亚晶铝带”,它紧靠SiC表面形成,与远离SiC的Al基体有几度的位向差,这种“亚晶铝带”在SiC/Al界面上普遍存在,其内有大量位错。

引用本文(GB/T 7714)

隋贤栋, 罗承萍, 欧阳柳章, 等. SiC p /Al-Si复合材料中SiC/Al界面处亚晶铝带的研究[J]. 未知来源, 2000.

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