直流电沉积和脉冲电沉积Ni-W涂层的对比研究(英文)
摘要
采用脉冲电沉积和直流电沉积方法在中碳钢基底上沉积了具有不同W含量的Ni-W涂层。应用能谱仪(EDS),扫描电子显微镜(SEM),X射线衍射仪(XRD)分别表征了涂层的成分、形貌和结构,分别研究了涂层的硬度和耐腐蚀性能。结果表明,脉冲电沉积涂层具有均匀表面,致密的结构,其硬度和耐腐蚀性能比直流电沉积涂层更高。钨含量高于20at%的脉冲电沉积涂层具有纳米晶结构,其中含钨量最高的脉冲电沉积涂层的HV硬度可高达7.26GPa。中性盐雾试验结果表明,脉冲电沉积Ni-W涂层耐蚀性优于直流电沉积涂层,是有效的可替代电镀Cr的材料。
引用本文（GB/T 7714）
Mei-Ling Wang, 杨志刚, 刘殿龙, 等. 直流电沉积和脉冲电沉积Ni-W涂层的对比研究(英文)[J]. 稀有金属材料与工程, 2012.
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