确定小剂量离子注入均匀性的新方法——多探针C—V法
摘要
提出了一种测量小剂量离子注入样品均匀性的新方法－－多探针Ｃ－Ｖ法，研制了相关的硬件和软件，此方法基于以下２个新颖的思想：１）采用多 探针测量，由微机通过开关矩阵进行控制，自动轮流切换，大大提高了速度、效率和可靠性。２）采用深浅不同的彩色地图（ＭＡＰ）来表示大硅片上各测量点的注入剂量，从而形象直观地显示出离子注入的均匀性，既容易理解，又容易记忆，通过对双注入ＭＯＳ样品上的８×８测试点阵列进行的测量分
引用本文（GB/T 7714）
陈之昀, 李同合. 确定小剂量离子注入均匀性的新方法——多探针C—V法[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 1996.
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