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分子模拟用于HLA—A2.1限制性CTL表位的高通量筛选

林治华全学军周跃钢

2003Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunyatseniImmunology and Microbiology被引 0

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摘要

应用Silicon Graphics图像工作站及InsightⅡ软件,分别建立MART-1的6个CTL预测表位与HLA-A2.1结合的三维结构,并进行分子动力学模拟,通过对各结合特征性参数的计算,对各表位肽与HLA-A2.1结合稳定性进行了比较.应用Merrifield固相多肽合成技术合成上述小肽,通过HLA-A2.1与各肽亲和力分析试验,证实分子模拟结果的可靠性.结果发现通过分子模拟手段计算所得6个表位与HLA-A2.1结合特性结果,基本与通过实验手段所得结果相符.故计算机分子模拟在CTL表位与MHC-I类分子的亲合力研究中,具有简单、直观、快速、准确等优点,该方法在筛选MHC-I类分子高亲合性CTL表位的研究中具有诱人的应用前景.

引用本文(GB/T 7714)

林治华, 全学军, 周跃钢. 分子模拟用于HLA—A2.1限制性CTL表位的高通量筛选[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 2003.

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