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8吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫I：LPCVD製程設備之加熱及進氣系統設計、流場模擬與系統整合及建立(III)
林清發、Lin Tsing-Fa
1999Engineering被引 0
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引用本文（GB/T 7714）
林清發, Lin Tsing-Fa. 8吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫I：LPCVD製程設備之加熱及進氣系統設計、流場模擬與系統整合及建立(III)[J]. 未知来源, 1999.
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