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PtTi阻挡层对AuTi/AuGe:Ni/GaAs系统热稳定性及欧姆接触特性的影响

蒋幼泉

1994Acta Scientiarum Naturalium Universitatis SunyatseniEngineering被引 0

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摘要

用俄歇电子能谱和电阻测试法研究了PtTi阻挡层与AuTi/AuGe:Ni/GaAs系统热稳定性的影响及欧姆接触特性的退化。结果表明,系统在250℃以下热处理是稳定的,它具有良好的欧姆接触特性;在更高的温度下,发现阻挡层下面的Ti扩散穿过接触层并消耗接触层的GaAs,在欧姆接触层下形成Ti-Ga-As/GaAs接触。接触电阻Rc迅速增加,由原始的几欧增大到几百欧。在320℃热处理时,系统的欧姆接触消

引用本文(GB/T 7714)

蒋幼泉. PtTi阻挡层对AuTi/AuGe:Ni/GaAs系统热稳定性及欧姆接触特性的影响[J]. Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni, 1994.

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